什么是溅射镀膜技术（什么是溅射）

4、溅射： 反射层下面的工序就是真空溅射反射层，溅射工艺也是在一体机里面完成的。

其原理是将高纯度的铝做成圆形的"铝靶"，上下通正负极，中间真空并充填惰性气体。

当通电的时候，铝靶上的铝原子受电子冲击溅射到光盘的信息面上，从而形成一个反射层。

铝靶同光盘之间的距离很短，并有一对铜制的比光盘稍小的圆环，防止铝溅射到光盘以外。

由于采用溅射的方法，每张光盘的反射层都很薄，仅有几个铝分子厚。

铝靶的内部同样要求高度的清洁，因为任何杂质都会使光盘反射层出现"针眼"，或者杂质碳化造成黑点。

一般一个铝靶可以生产10万张光盘，但连续使用的铝靶能够生产更多的产品。

前面我们提到的金盘是用铜合金或者金做反射层，如果采用铜合金作为反射层就不能采用溅射的方法了，而是将金粉或铜合金粉采用类似"喷粉"的方法涂附在光盘的信息面上。

除了铜合金本身价格高以外，这样的工艺不仅效率不高，而且损耗大，容易出现质量问题，所以这也是金盘价格高的另一个原因。